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HMDS真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），又称HMDS基片预处理系统，指需在低真空度下进行的镀膜。对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制，可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭的环境中进行，没有HMDS挥发，提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃
HMDS真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），又称HMDS基片预处理系统，指需在低真空度下进行的镀膜。对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制，可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭的环境中进行，没有HMDS挥发，提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃
HMDS真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），又称HMDS基片预处理系统，指需在低真空度下进行的镀膜。对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制，可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭的环境中进行，没有HMDS挥发，提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃
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