THL系列高等院校高低温试验箱在高温、低温循环变化的情况下，测试样品各项性能指标，具有模拟大气环境中温度变化规律。材料在高温、低温综合环境下运输，可用于产品设计，改进鉴定及检验等环节，适用于工业品高温，低温的可靠性试验。广泛应用于电子电工、汽车摩托、航空航天、橡胶、塑胶、金属、船舶兵器、高等院校、科研单位等相关产品的零部件测试。

THL系列科研单位高低温试验箱在高温、低温循环变化的情况下，测试样品各项性能指标，具有模拟大气环境中温度变化规律。材料在高温、低温综合环境下运输，可用于产品设计，改进鉴定及检验等环节，适用于工业品高温，低温的可靠性试验。广泛应用于电子电工、汽车摩托、航空航天、橡胶、塑胶、金属、船舶兵器、高等院校、科研单位等相关产品的零部件测试。

THL系列高等院校高低温试验箱在高温、低温循环变化的情况下，测试样品各项性能指标，具有模拟大气环境中温度变化规律。材料在高温、低温综合环境下运输，可用于产品设计，改进鉴定及检验等环节，适用于工业品高温，低温的可靠性试验。广泛应用于电子电工、汽车摩托、航空航天、橡胶、塑胶、金属、船舶兵器、高等院校、科研单位等相关产品的零部件测试。

HMDS真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统，喆图真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制，可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭的环境中进行，没有HMDS挥发，提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。

HMDS真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），真空镀膜机又称基片预处理系统，喆图真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制，可以在硅片、衬底表面完成 成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭的环境中进行，没有挥发，提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。

HMDS真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统，喆图真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制，可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭的环境中进行，没有HMDS挥发，提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料，为基