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VDM系列真空镀膜机

简要描述:VDM系列真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷(别名六甲基二硅氮烷),HMDS真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统,指需在低真空度下进行的镀膜。喆图HMDS真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制,可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量,所有工艺都在密闭的环境中进行,没有HMDS挥发,提高了安全性。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-07-15
  • 访  问  量:138

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详细介绍

品牌GEMTOP/喆图价格区间面议
产地类别国产应用领域化工,生物产业

用途概述

VDM系列真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷(别名六甲基二硅氮烷),HMDS真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统,指需在低真空度下进行的镀膜。喆图HMDS真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制,可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量,所有工艺都在密闭的环境中进行,没有HMDS挥发,提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料,为基片在涂胶前改善表面活性,增加光刻胶与基底的粘附力的设备,也可用于晶片其它工艺的清洗,尤其在芯片研发和生产领域应用更加普及。

产品特点

u VDM系列真空镀膜机采用PLC工控自动化系统,人机界面采用触摸屏,具有可靠性高,操作智能方便

u PLC微电脑PID控制系统具有自动控温、定时、超温报警等,彩色触摸屏显示,控温可靠

u 智能化触摸屏控制系统可根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间

u 采用钢化玻璃观察窗,监测方便,一体成型的硅橡胶门封,确保箱内密封性好;

u 外壳和加热管均采用不锈钢材质,内胆不锈钢,无易燃易爆装置,无发尘材料;

u 以蒸汽的形式涂布到晶片表面,液态涂布均匀,可一次处理4盒以上的晶片,节省药液。

u 去水烘烤和增粘(疏水)处理一机完成无需转移,有效规避HMDS泄露的

u HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,使真空箱密封性好,确保HMDS气体外漏

u 多余的HMDS蒸汽(尾气)由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道确保安全以及环保

HMDS预处理系统的必要性

HMDS涂到晶片表面后,经HMDS真空镀膜机加温后可反应生成以硅氧烷为主体的化合物,

它可将硅片表面由亲水变为疏水,起着耦合作用,可更好与光刻胶结合,保证涂胶工艺不影

响光刻效果和显影。

HMDS本身是表面改性,不会涂在圆片表面,HMDS上面涂胶不影响HMDS的处理效果。

HMDS处理后需要冷却后涂胶,建议4小时内完成涂胶。

HMDS真空镀膜机预处理程序

HMDS(六甲基二硅胺)是黄光区最毒的东西,HMDS真空镀膜机预处理程序为:打开

真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充入氮气,充到一定低真

空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保

持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入

通过氮气的HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,

使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,

完成整个作业过程。

技术参数

型号

VCM-90

VCM-125

VCM-210

电源电压

AC 220V 50Hz

控制系统

PLC控制

仪表控制

彩色触摸屏

控温范围

RT+10-250℃

温度分辨率

0.1℃

温度波动度

±0.5

真空度

≤133pa

内胆尺寸

450*450*450

500*550*500

550*550*650

容积

90L

125L

210L

真空泵

选配

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